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9 月 24 日消息，消息韩媒 etnews 当地时间今日报道称，力士两年量翻SK 海力士计划在未来两年内新购置约 20 台 ASML 的加速 EUV 光刻系统。考虑到 SK 海力士目前持有约 20 台用于研发和生产的引进有望天博全站app网页版 EUV 机台，这意味着这家存储巨头对此类设备的刻机保有规模将在两年内翻倍。

在 SK 海力士的内部site:gkacttf.com两大业务领域中，内存端的署数 EUV 光刻工艺早已随着 2021 年的 1a nm DRAM 实现商业化，EUV 的消息应用规模也在随着内存世代演进稳步提升。

而由于 AI 发展对企业级高性能存储尤其是力士两年量翻 HBM 需求的提升，SK 海力士需要更多的加速 EUV 设备来扩大先进 DRAM 内存的生产规模。

除目前主要应用的引进有望 Low-NA EUV 光刻机，SK 海力士本月早些时候还在存储器业界引进了首台量产型 High-NA EUV 光刻机，刻机即 ASML 的内部 TWINSCAN EXE:5200B，部署在韩国利川 M16 生产基地中。署数

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（凤凰网宁波 五蚂、氢学乐）